集成电路布图设计

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     1947年12月23日，美国贝尔实验室的巴丁、布喇顿、肖克莱研制成功晶体管，打破了电子管在体积、功耗、寿命等方面的局限性，使电子技术跃入一个新的阶段。1953年, 摩托罗拉公司研发出低成本的晶体管，用于无线电通讯接收机和收音机的音频功率模块上。德州仪器的 Jack Kilby研发出世界上第一块集成电路 (IC)。

     到了1984年，美国芯片保护法(The U.S. Semiconductor Chip Protection Act ,SCPA)颁布，创设了知识产权保护的新类型。

     1985年，日本颁布了《Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated  circuit 》。

      欧共体在1986年发布《Council Directive on legal protection of Topographies of SC products (87/54/EEC)》。

      在美、日等国的提议下，世界知识产权组织（WIPO）开始制订保护集成电路的条约，1989年WIPO公布了华盛顿公约（Washington Treaty）；1994年, 关于集成电路布图设计的相关规定纳入了TRIPS协议文本中。

      我国在2001年颁布的《集成电路布图设计保护条例》等规范性文件，主要参照TRIPS协议。

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    《集成电路布图设计保护条例》的第二条如下：

  “本条例下列用语的含义：

     (一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；

     (二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；

     (三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；

     (四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

     (五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。”

      从《集成电路布图设计保护条例》的标题名称上看，直接将布图设计作为中心词，该条第（二）项将保护客体直接限定于半导体集成电路上，这是因为只有半导体集成电路在制造过程中对布图设计有着必然的依赖性。

      该条第（三）项规定了享有布图设计专有权的主体是自然人、法人或者其他组织。并在该条例第二章专章规定的布图设计专有权的内容，与该条第（四）项和第（五）项的关于“复制”和“商业利用”的定义相呼应。

      条例第四条规定：“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。”可见，独创性是布图设计专有权的实质要件，即具有独创性的布图设计才能得到保护，这又充分体现了布图设计专有权的著作权法的基因。

       条例第七条具体细化规定了布图设计专有权的两项权能，即“复制权”和“商业利用权”，即布图设计专有权人享有：

     (1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制的专有权，和

     (2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的专有权。

      其中复制权的内容特别值得注意，对布图设计而言，并不要求某个布图设计的全部内容都具有独创性，只要其中的某个部分具有独创性即可。

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      条例第六条规定，国家知识产权局负责布图设计专有权的有关管理工作。具体来说，由设立在国家知识产权局审查一部是相关处室负责登记审查，采用初步审查制，“布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。” 截止到2021年11月，历年的登记申请与发证的数量见下图（资料来源为国家知识产权局网站）：

      从上图可以看出，条例施行后的十年间，累计的申请量不足5000件，从2011年开始到2016年，每年的申请量不超过3000件，2020年开始，年申请量突破1万件。这种申请趋势有何规律，值得认真思考。

      顺便指出的是，与条例配套的实施细则第十六条规定，“布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品，……。”

      与专利法的规定相仿，对于驳回登记的不服的当事人，可以通过复审程序寻求法律救济。即：“布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后，作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。”

      条例规定的撤销程序显得非常特别。对于已经获得登记的布图设计，条例第二十条规定：“布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以公告。布图设计权利人对国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。”

      从该二十条的规定看，有权启动撤销程序的是的主体是“国务院知识产权行政部门”，即撤销程序为单方当事人程序，只能由国家知识产权局依职权启动。下图显示的从国家知识产权局网站上检索出的撤销决定数量十分有限，且编号也不连续，表明有一些案子提前结案了。

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      集成电路布图设计的侵权判定，应秉持“接触+实质相同”理念。权利人需要从权利基础及侵权事实两方面举证。其中，权利基础的证明是集成电路布图设计侵权诉讼中的重点与难点。尽管权利人经过登记程序获得证书，但要想明确其权利基础，仅从证书和申请文件中还不能明确确定。这是因为，布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。而登记文件为平面图，且完整的布图设计图需要多个幅面，难免不进行缩小处理，由此导致图上显示的内容不够清晰，且没有类似专利权利要求书的直观内容。特别需要指出的是，登记的布图设计不能当然推定其内容具有独创性，故权利人需要明确指出登记文件的哪些内容属于受保护的具有独创性的布图设计，如果权利人在登记时没有提交过含有布图设计的集成电路样品，仅凭不够清晰的布图设计图来确定权利基础，会给审理法院带来难当大的麻烦，这也是集成电路布图设计难以实际获得保护的原因之一。因此，从维权的便利方面看，应尽可能提交含有布图设计的集成电路样品。

      实务中，权利人（原告）应明确指出指明布图设计中有哪些部分具有独创性（独创点），最好提供与各独创部分对应的现有常规设计，以此证明作为其权利基础的布图设计具有独创性。若提交过含有布图设计的集成电路样品，除登记文件与集成电路样品不相互对应外，则该集成电路样品也可以作为权利基础。因此，登记文件与集成电路样品两者的法律地位是相同的，这一点已被最高法院知识产权法庭做出的（2019）最高法知民终490号判决书所肯定。

      在确定了权利基础之后，权利人（原告）还必须“锁定”被控侵权产品，通常是通过公证购买获得被控侵权产品。并通过鉴定机构做出技术鉴定，与前述作为权利基础的设计部分进行比对，两者要满足相同或实质相同的标准。

      最后，权利人（原告）还要举证被控侵权方与原告方有过“接触”。例如，在上述（2019）最高法知民终490号案中，最高法院认为：“基于上述对于登记行为性质的分析，登记是产生布图设计专有权的前提，而不具有公开布图设计内容的性质。在布图设计已经获得登记，取得专有权的情况下，对布图设计的侵权认定类似著作权侵权认定思路，而无法采用与专利侵权认定相同的规则。即使在被诉侵权芯片与布图设计构成相同或实质相同时，也要考虑被诉侵权人是否具有接触布图设计的可能性，即布图设计的侵权认定采取接触加相同或实质相同的判断方法。其中，接触是指权利人应举证证明指被诉侵权人在被诉侵权行为发生前，具有接触涉案布图设计的可能性，而不要求其对已经发生实际接触进行举证。”

      “本案中，涉案布图设计在进行登记前已经投入商业使用，使用涉案布图设计的产品在相关市场销售。赛芯公司的法定代表人谭健在2011年8月至2013年4月期间按月向户财欢支付报酬，在此期间一定时间内支付金额大致相当。……。户财欢其后作为唯一股东设立了准芯微公司，并担任法定代表人，复制了涉案布图设计，销售了使用涉案布图设计的产品，而没有提供使用的被诉侵权布图设计的来源。基于上述分析，本院认定准芯微公司满足接触可能性的条件，赛芯公司无需举证证明准芯微公司实际进行了反向工程、实际接触了涉案布图设计。”

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      尽管集成电路布图设计登记的主管机关为以专利审查为主要职能的国家知识产权局负责，但不容否认的是，《集成电路布图设计保护条例》所天然带有著作权法的基因，而在独创性要件的认识和把握上，往往受到传统专利法原理的影响。两种制度对集成电路补图设计的影响，使得集成电路布图设计权侵权判定中存在着不小的模糊空间。以下略作比较研究。

      1、“公开换保护”是专利法的基本原理，而集成电路布图设计登记后并不会公开其实质内容。

      2、专利法有“新颖性、创造性、实用性”的授权要件，而集成电路布图设计保护以“具有独创性的布图设计部分”作为保护的权利基础，兼有对“商业利用权”的保护。

     3、专利法中，对于技术方案的专利保护，以权利要求的内容为准，保护客体为完整的技术方案；而集成电路布图设计保护可以保护布图设计的“局部”。

     4、专利法中对于技术方案不要求提供“样品”，而集成电路布图设计保护可以提供含有的集成电路样品，且可以作为权利基础。

      5、在程序制度设计方面，专利法规定了专利无效宣告程序，任何单位或个人可对其认为不符合专利授权条件的授权专利提出无效请求；而集成电路布图设计保护只有“依职权”的撤销程序，尽管实务中有请求人向国家知识产权局提出撤销登记请求，但请求人的法律地位仍然模糊，无法成为适格的撤销程序当事人。

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       种种迹象表明，集成电路布图设计保护在中国乃至世界各国都被权利人所冷落：中国每年区区一万件左右的布图设计登记申请数量（其中也存在着泡沫成分），与集成电路技术领域的专利申请量相比，实在是少得可怜；可以检索到的侵权诉讼案件或撤销案件累计不超过百件。分析下来，其原因在于这一立法模式并不能满足权利人的需求。因此，与其说通过对集成电路布图设计保护制度进行大修来改变上述状况，不如正确认识该制度的局限性，对集成电路转向专利保护或者技术秘密保护的轨道。